前处理：包括除油、微蚀等步骤，去除基板表面的有机物和氧化层，粗化表面以提高镀层附着力。对于罗杰斯等特殊基材，可能还需要进行等离子体处理。
种子层沉积：采用化学镀或物相沉积（PVD）方法，在基板表面形成一层薄的导电种子层，通常为铜或镍，厚度约 0.1-0.5μm。
电镀液成分：酸性镀铜液中，硫酸铜、硫酸的浓度以及添加剂的种类和含量，直接影响镀层的结晶质量和表面平整度。
电流密度：过高的电流密度会导致镀层粗糙、内应力增大；过低则会影响沉积速度和镀层均匀性。一般脉冲电镀的电流密度在 1-5A/dm² 之间。
温度和搅拌：镀液温度和搅拌速度会影响离子扩散速度和镀层的均匀性。如化学沉银时，需通过恒温搅拌，确保银层均匀性达 90% 以上。
基材预处理：奠定结合与信号基础
先进行除油脱脂，用碱性或中性清洗剂去除基材表面油污、指纹，避免影响镀层附着力。
针对 PTFE、罗杰斯等特殊基材，需额外做等离子体活化 / 化学粗化，提升表面活性与粗糙度。
通过微蚀 + 水洗，去除表面氧化层，同时形成均匀微观粗化面，增强后续种子层结合力。
后处理与检测：保障产品合格
进行多轮清洗 + 烘干，去除表面残留药剂、水分，避免镀层变色或基材受潮。
开展检测：包括镀层厚度（XRF 检测）、附着力（划格测试）、阻抗值（网络分析仪检测）、高频损耗（插入 / 回波损耗测试）。
终进行外观检查，排除针孔、桥连、划痕等缺陷，确保产品符合高频高速传输要求。
