表面平整度高:为减少信号散射,电镀层需具备的表面平整度,特别是在微带线、共面波导等结构中,通常要求镀层表面粗糙度 Ra<0.5μm。
基材预处理:奠定结合与信号基础
先进行除油脱脂,用碱性或中性清洗剂去除基材表面油污、指纹,避免影响镀层附着力。
针对 PTFE、罗杰斯等特殊基材,需额外做等离子体活化 / 化学粗化,提升表面活性与粗糙度。
通过微蚀 + 水洗,去除表面氧化层,同时形成均匀微观粗化面,增强后续种子层结合力。
种子层沉积:构建导电基底
采用物相沉积(PVD)或化学镀,在绝缘基材表面沉积超薄导电层(铜或镍)。
种子层厚度控制在 0.1-0.5μm,要求覆盖均匀、无针孔,为后续图形电镀提供稳定导电通道。
沉积后需做简易附着力检测,避免种子层脱落影响后续工艺。
2018年在深圳建成孔金属化和电镀生产线代加工厂,工厂位于广东深圳宝安区沙井大王山益益明工业区C栋一楼,主要生产以软板、RF4、高频板、mini、软板多层为主。生产线有三条巨龙水平线、两条佳凡电镀线月产能35000平米。
深圳沙井载板电镀加工,深圳沙井高频高速线路板电镀加工

